ASML：EUV光刻机非常复杂 只有我们能造出来-冯金伟博客园

　　作者：宪瑞

　　很多人都知道半导体工艺中光刻机是最核心的，因为它决定了半导体工艺的技术水平，而且成本能占到整个芯片的1/3。在进入 7nm 节点之后，光刻机也需要升级到 EUV 光刻机，目前仅有荷兰 ASML 公司能造，该公司 CEO 表示 EUV 光刻机非常复杂，没有可能被复制，全球只有 ASML 能生产。

　　据荷兰媒体报道，在 1 月 22 日的 ASML 财报会议上，ASML 公司 CEO Peter Wennink 谈到了 EUV 光刻机的问题，他解释说 ASML 是 EUV 光刻机的系统集成商，这套设备集成了全球数百家公司的技术，拥有超过 8000 多个零部件，许多零件都是非常复杂的。

　　Peter Wennink 表示，以镜头为例（注：物镜系统是光刻机三大核心之一，其他两个是激光系统、工作台），卡尔蔡司为 ASML 提供光学镜头，集成了各种反光镜及光学部件，世界上没有哪家公司能够复制他们的技术。

　　Peter Wennink 强调，ASML 的光刻机装有传感器，一旦检测到异常情况就会发出警报。

　　根据 ASML 财报的最新财报，2019 年该公司交付了 26 台 EUV 光刻机，远超上一年的 18 台，预计 2020 年交付 35 台 EUV 光刻机，2021 年则会达到 45 台到 50 台的交付量，是 2019 年的两倍左右。