日媒称日本已开发出EUV光刻设新技术 耗电量降至1/10

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日媒称日本已开发出EUV光刻设新技术耗电量降至1/10

　　【CNMO科技消息】近日，CNMO注意到，有日媒报道称，日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术，旨在显著减少制造尖端半导体所必需的极紫外线（EUV）光刻设备的能耗与制造成本。 ...