【CNMO科技消息】近日，CNMO注意到，有日媒报道称， 日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术，旨在显著减少制造尖端半导体所必需的极紫外线（EUV）光刻设备的能耗与制造成本。
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- 业界
- 2024-08-13
这篇文章主要介绍euv和duv区别有哪些，文中介绍的非常详细，具有一定的参考价值，感兴趣的小伙伴们一定要看完！
euv和duv区别：1、duv基本上只能做到25nm，而euv能满足10nm以下的晶圆
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- 运维
- 2023-02-27
7月12日，SK海力士正式对外宣布开始量产适用第四代10纳米（1a）级工艺的8Gigabit（Gb） *LPDDR4移动端DRAM产品。
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- 业界
- 2021-07-12
存储芯片厂商 SK 海力士 2 月 1 日宣布，其公司位于韩国首尔南部利川市的 M16 新厂已经竣工，SK 海力士将首次使用极紫外辐射（EUV）光刻机在生产存储芯片。
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- 业界
- 2021-02-02
继SK海力士日前宣布在M14和建设中的M16工厂均引入EUV光刻机后，三星也坐不住了。
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- 业界
- 2020-12-04
