据外媒最新报道称，ASML已经开始制造新一代极紫外（EUV）光刻机，其每台造价达到了1.5亿美元，约合人民币近9.7亿元。
据悉，在位于美国康涅狄格州郊区的一间大型洁净室里，ASML工程师们已经开始为一台机器制造关键部件，这台机器有望让芯片制造行业沿着摩尔定律至少再走上10年时间。
“这真是一台不可思议的机器，”麻省理工学院研究新型晶体管架构的教授 Jesús del Alamo 说。“这绝对是一款革命性的产品，是一项突破，将给芯片行业带来新的生命。”
造好的组件将于2021年底运往荷兰维荷芬，然后在2022年初安装到新一代极紫外光刻机的第一台原型机中。Intel可能会使用这种新机器制造出第一批芯片。
值得一提的是，新一代极紫外（EUV）光刻机采用更大的数值孔径来进一步缩小芯片上的元件尺寸。这种方式允许光线以不同角度穿过光罩，从而增加图案成像的分辨率。这就需要更大的镜子和新的软硬件来精确控制组件蚀刻。
ASML当前一代极紫外光刻机可以制造出分辨率为13nm的芯片。新一代极紫外光刻机将使用更高数值孔径来制作8nm大小的特征图案。
目前台积电在芯片制造过程中使用的就是极紫外光刻技术。其客户包括苹果、NV和Intel。
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