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• EUV光源、双工作台陆续突破。
• 中国光学镜头需要成长。
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口罩对准器新突破(中国科学院口罩对准器突破)

芯片领域的发展一直是全球关注的焦点。掩模对准器作为芯片制造的基础，一直是中国难以跨越的鸿沟，尤其是高端掩模对准器。然而，每一次努力都有回报，中国在口罩对准器方面取得了一些进展。

EUV光源、双工作台陆续突破。

上海微电子作为中国掩模对准行业的龙头企业，近年来表现相当不错。截至目前，上海微电子已经掌握了90nm掩模对准器的制造能力，也在28nm生长。预计将于2021年底与您见面。

掩模对准器的三大核心技术是EUV光源、双载物台和光学镜头，难度相当。我们国家在技术方面经常被西方国家封锁。

中国科学院最近的好消息表明，中国在口罩对准器领域取得了新的突破。在掩模对准器技术的生产上，清华大学与美国联邦理工学院达成合作协议，共同提出了一种新型粒子加速器，并进行了验证。结果表明，通过ssmb的工作原理，可以覆盖掩模对准器所需的EUV光源技术。

不仅如此，现在在双工件台技术上也取得了一些成果。华卓精科作为国内该领域的优秀代表企业——业，与清华大学专业团队合作，共同研发出了双工件台，无论是技术水平还是实力都可以与ASML相媲美。据了解，上海微电子制造的28nm掩模对准器采用华卓精科的双工件台。

该双级精度可达1.7nm，主要用于65nm以下的芯片工艺。它的出现标志着中国在这一领域的技术进步，打破了西方国家的封锁，实现了自主生产。

中国光学镜头需要成长。

如果我们想在口罩对准方面实现全面发展，这将挑战ASML的主导地位。目前光学镜头技术还有提升空间，中国在该领域表现突出的是虞舜光学公司。

据了解，在去年的世界镜头市场中，虞舜光学占了26%，而在安卓手机镜头市场中，它占了33%，甚至以5617万的销量，位居全球第一。

为了推动光学镜头的发展，虞舜光学不遗余力地克服技术难题。从2008年开始投资5600万元，去年投资25亿元到。现已在该领域占有一席之地，获得授权专利2000余项。

但遗憾的是，目前无法生产掩模对准透镜，这主要是由于掩模对准透镜的难度。按照虞舜光学目前的发展水平，还很难达到这个技术水平。掩模对准器透镜要求镜面光洁度不超过50皮米，相当于要求四川的高度不超过5厘米。

在光学镜头制造方面，卡尔·蔡司是绝对的王者，是全球唯一一家为ASML提供光学镜头的公司，发展历史超过170年。

即使是经验丰富、实力雄厚的蔡司，也不能完全保证自己的产品能够达标。目前公司能达标的技术人员只有20人。

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虽然中国还没有实现掩模对准镜头的生产，但相信凭借虞舜光学的实力和目前的发展速度，未来中国将在这一领域取得突破，打破外国公司的技术壁垒。