消息称英伟达 RTX 50 显卡采用台积电 3nm 工艺

11 月 18 日消息，据可靠爆料人 kopite7kimi 消息，英伟达 RTX 50 系列显卡所采用的 GB200 系列 GPU 将采用台积电 3nm 工艺。

据此前报道，英伟达当前的 RTX 40 显卡采用“TSMC 4N”工艺，没有说明具体是几 nm 工艺，有报道称是定制的 5nm 工艺。英伟达官方表示，在 TSMC 4N 定制工艺技术加持下，RTX 40 系列 GPU 实现了高达 2 倍的性能功耗比飞跃。

除了新工艺外，消息称 RTX 50 系列显卡将采用 GDDR7 显存，最高支持 384bit 位宽，接口包括 HDMI 和 DP 2.1，支持通过 PCIe 5.0 连接，供电采用改进版 12V-2×6 16pin 接口，发布时间可能是 2024 年底或 2025 年。

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