3月29日，清华大学设备采购信息平台发布了一则等离子体刻蚀机采购项目的公开招标公告。
据介绍，该等离子体刻蚀机将用于刻蚀薄膜铌酸锂晶圆，从而加工基于薄膜铌酸锂晶圆的电光器件。
技术指标要求：
－ 真空系统：分子泵抽速≥1300L/s、干泵抽速≥100m3/h；
－ 下电极：满足8英寸(200mm)样品刻蚀需要，更小样品或碎片可贴片装载；
－ 软件和控制系统：要求自主版权的软件、Windows操作系统软件；
－ 机台工艺能力：主要用于刻蚀薄膜铌酸锂材料、介质材料等。
等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。
等离子刻蚀是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。
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